硫酸頭孢喹肟注射液研磨均質(zhì)機，無菌機研磨均質(zhì)機，硫酸頭孢喹肟注射液研磨分散機，硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機，硫酸頭孢喹肟口服液研磨均質(zhì)機，醫(yī)藥級研磨分散機，獸用注射液研磨均質(zhì)機，GMP注射液研磨均質(zhì)機
IKN研磨均質(zhì)機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
硫酸頭孢喹肟注射液是獸用注射液的一種， 頭孢類抗生素又稱先鋒霉素，屬于β—內(nèi)酰胺類抗生素，是β—內(nèi)酰胺類抗生素中的7-氨基頭孢烷酸的衍生物，具有抗菌諾廣，抗菌作用強、耐青霉素酶、過敏反應(yīng)較青霉素類少見等優(yōu)點。所以是一類高效、低毒、臨床廣泛應(yīng)用的重要抗生素。全球第一個動物專用頭孢是頭孢噻呋
硫酸頭孢喹肟注射液制備工藝：
1、在燒杯中一定量的硬脂酸鋁和一定量的油酸乙酯混合均勻，加熱至120度，然后再攪拌狀態(tài)下放冷之室溫備用，得到硬脂酸鋁油酸乙酯溶液。
2、稱取硫酸頭孢喹肟和卵磷脂適量加入燒杯中，再將之前得到的硬脂酸鋁油酸乙酯溶液與之混合，通過高速剪切分散均質(zhì)3-5min，即得D90<10um的鹽酸頭孢喹肟注射液。
硫酸頭孢喹肟的結(jié)構(gòu)決定它具有如下特點：
1、可快速穿透革蘭氏陰性細菌的外膜；
2、對β內(nèi)酰胺酶穩(wěn)定且親合力低；
3、與青霉素結(jié)合蛋白親合力高；
4、半衰期短，需多次給藥，體內(nèi)分布不廣泛。
醫(yī)藥級混懸液、注射液、口服液設(shè)備選型上注意幾點：
1、設(shè)備收否能夠達到無菌級別。即設(shè)備可以在線滅菌，可以耐受高溫，滅菌后可以保持無菌狀態(tài)。
2、電機要求有變頻控制，可以有效延緩電機的壽命。
3、膠體磨的不銹鋼材質(zhì)一定要耐磨，防止研磨過程出現(xiàn)金屬碎屑。
4、關(guān)于生產(chǎn)效率配備、連接方式、電源、噪音、安全等問題生產(chǎn)單位應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場考慮。
選定的膠體磨作為生產(chǎn)頭孢噻呋、頭孢喹肟等混懸液的關(guān)鍵設(shè)備，由于價格較貴，需要在廠家現(xiàn)場試驗，考察研磨效果。上海依肯特別提供一臺樣機，可供客戶購買前免費試機，滿意了咱才買，不會花冤枉錢！這點還是比較人性化的。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。
研磨分散機的優(yōu)勢：
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念，將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中，為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力
從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
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