UV光催化氧化設(shè)備是利用高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，分解惡臭氣體如氨、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯等分子的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成如CO2、H2O等低分子化合物，

UV光催化氧化設(shè)備技術(shù)注意事項：

1、惡臭物質(zhì)能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。

2、裂解反應(yīng)的時間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)（見反應(yīng)④）的時間需2-3s。

3、提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不完全而生成一些中間副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。

4、UV光解凈化的長期穩(wěn)定、高效，需要反應(yīng)溫度＜70℃，粉塵量＜100mg/m3，相對濕度＜99%。

5、條件滿足的情況下，UV光解凈化的凈化效率可達到99.9%以上。

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