科研型高剪切納米均質(zhì)機(jī)，實(shí)驗(yàn)型小型納米均質(zhì)機(jī)，高校實(shí)驗(yàn)室用納米均質(zhì)機(jī)，14000轉(zhuǎn)高速高剪切納米均質(zhì)機(jī)，高剪切均質(zhì)機(jī)，納米均質(zhì)機(jī)

高剪切均質(zhì)機(jī)運(yùn)作腔內(nèi)的轉(zhuǎn)定子層數(shù)越多，剪切面越大，效果越好。材料細(xì)化度高達(dá)0.01μm。實(shí)現(xiàn)了集分散、均質(zhì)、粉碎、融合、溶解、懸浮、輸送等為一體的多功能設(shè)備。

高剪切均質(zhì)機(jī)超細(xì)粉碎、乳化功能，無(wú)論是從理論上，還是實(shí)際加工的乳劑和分散體所獲得的細(xì)度、均勻度的質(zhì)量上，都是高速攪拌、砂磨、球磨、膠體磨、超聲波等均質(zhì)器械不能比擬的。但是，如果在工藝上應(yīng)用不正確、不得當(dāng)，也是無(wú)法獲得滿(mǎn)意結(jié)果的，至少不可能獲得佳的效果。

ERS2000/4中試型均質(zhì)機(jī)：為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且均質(zhì)頭的種類(lèi)及相應(yīng)線(xiàn)速度也相同，中試過(guò)程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到低。

ERS2000/4科研型高剪切均質(zhì)機(jī)技術(shù)參數(shù) 馬達(dá) 1.5KW或2.2KW 真空/壓力 -/2.5bar 分散頭轉(zhuǎn)速 0-14000rpm 線(xiàn)速度 0-44m/s 尺寸（長(zhǎng)寬高） 450*250*350mm 重量 約35Kg 可配模塊 EDL/ER/ERS/CM/CMO/PLD/PLC

設(shè)備的選型要點(diǎn)：

1、明確使用設(shè)備所需達(dá)到的效果和目的

2、詳細(xì)了解并掌握研究物料的性質(zhì)（包括物理、化學(xué)性質(zhì)）

3、根據(jù)物料對(duì)設(shè)備的攪拌機(jī)進(jìn)行選型

4、再次確定設(shè)備的操作參數(shù)及結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

5、綜合考慮設(shè)備的成本

IKN高剪切納米均質(zhì)機(jī)設(shè)備選型及參數(shù)：

均質(zhì)機(jī) 標(biāo)準(zhǔn)流量（H2O） 輸出轉(zhuǎn)速 標(biāo)準(zhǔn)線(xiàn)速度 馬達(dá)功率 進(jìn)出口尺寸

型號(hào) l/h rpm m/s kW

ERS2000/4 300-1,000 14000 40 2.2 DN25/DN15

ERS2000/5 1,000-1.500 10,500 40 7.5 DN40/DN32

ERS2000/10 3,000 7,300 40 15 DN50/DN50

ERS2000/20 8,000 4,900 40 37 DN80/DN65

ERS2000/30 20,000 2,850 40 75 DN150/DN125

ERS2000/50 40,000 2,000 40 160 DN200/DN150

注：如果流量超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)流量的25%并外加泵

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，比須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。