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TJ濺射掩膜版叉指電極掩膜板掩膜支架激光加工激光精

  • 發(fā)布時間:2023-08-28 15:35:01,加入時間:2018年05月18日(距今2775天)
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光刻掩膜版(又稱光罩,英文為mask reticle),簡稱掩膜版,是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構,再通過圖形信息轉移到產品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得,常用加工設備為直寫式光刻設備,如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版,如ic(integrated circuit,集成電路)、fpd(flat panel display,平板顯示器)、pcb(printed circuit boards,印刷電路板)、mems(micro electro mechanical systems,微機電系統(tǒng))等。
使命:用激光技術,解決客戶問題,助力科學發(fā)展
愿景:成為掩膜版加工解決方案者
價值觀:專業(yè) 共贏
   華諾激光坐落于首都北京,是一家激光精密切割加工、激光打孔、激光刻字、激光焊接等激光代加工的企業(yè),并提供相關技術咨詢服務!

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