磁控濺射鍍膜機(jī)是一種常見(jiàn)的金屬薄膜制備設(shè)備，采用磁場(chǎng)使靶材中的金屬離子濺射到基片上，從而形成金屬薄膜。它不僅可以制備單層金屬膜，還可以用于合金、多層膜和復(fù)合膜等工藝。磁控濺射鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是薄膜制備速度快，制備效果良好，適用于不同形狀和大小的基片。廣泛應(yīng)用于電子、光電、半導(dǎo)體和納米科技等領(lǐng)域。

真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是一種通過(guò)加熱材料讓其蒸發(fā)并沉積在基板表面形成薄膜的技術(shù)。該設(shè)備操作簡(jiǎn)單、制備工藝成熟，廣泛應(yīng)用于金屬、二氧化硅、氧化鋅和有機(jī)聚合物等材料的薄膜制備。真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是可以制備各種樣品的薄膜，并且可以通過(guò)控制沉積速度來(lái)獲得良好的膜厚均勻性。