磁控濺射鍍膜機是一種常見的金屬薄膜制備設備，采用磁場使靶材中的金屬離子濺射到基片上，從而形成金屬薄膜。它不僅可以制備單層金屬膜，還可以用于合金、多層膜和復合膜等工藝。磁控濺射鍍膜機的優(yōu)點是薄膜制備速度快，制備效果良好，適用于不同形狀和大小的基片。廣泛應用于電子、光電、半導體和納米科技等領域。
真空蒸發(fā)鍍膜機是一種通過加熱材料讓其蒸發(fā)并沉積在基板表面形成薄膜的技術。該設備操作簡單、制備工藝成熟，廣泛應用于金屬、二氧化硅、氧化鋅和有機聚合物等材料的薄膜制備。真空蒸發(fā)鍍膜機的優(yōu)點是可以制備各種樣品的薄膜，并且可以通過控制沉積速度來獲得良好的膜厚均勻性。
