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鄭科探磁控濺射儀

桌面式磁控濺射儀KT-Z1650PVD離子濺射儀為一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統(tǒng),對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時,交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔,之后試樣復原,再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料,有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料,氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。

*外形小巧方便移動

*觸摸屏控制,工藝記憶儲存方便鍍相同樣品

*自動化電動擋板,能自動打開關閉,保證鍍樣時間和保護樣品

*石英+不銹鋼腔體,方便觀察和清洗

面式磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數;

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V 電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

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