真空爐是一種在真空環(huán)境中進行加熱處理的設備，廣泛應用于工業(yè)領域的多種材料處理。
真空爐的主要特點包括：
可以在沒有氧氣的情況下進行熱處理，避免材料的氧化、燒損或其他化學反應。 分為輻射加熱真空爐和電阻加熱真空爐兩種類型，前者使用電加熱器或電子束加熱器作為熱源，后者使用電阻絲或電阻環(huán)來加熱工件。 廣泛應用于金屬熱處理、玻璃制造、半導體制造等領域，能夠控制加熱溫度和保持恒定的壓力，確保材料在優(yōu)化的工藝條件下進行處理。 內部結構通常由高溫材料構成，如石英、金屬合金等，以保證其能夠耐受高溫環(huán)境。 具有快速升溫和冷卻的能力，提高生產效率。
