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牙膏級高白氫氧化鋁研磨分散機

  • 發(fā)布時間:2025-06-24 00:00:00,加入時間:2013年03月04日(距今4676天)
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采用國際先進的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求. 可以處理量大,運轉更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,無死角,物料100%通過分散剪切。

氫氧化鋁白色固體粉末,用途廣泛: 氫氧化鋁是用量zui大和應用zui廣的無機阻燃添加劑。氫氧化鋁作為阻燃劑不僅能阻燃,而且可以防止發(fā)煙、不產(chǎn)生滴下物、不產(chǎn)生有毒氣體,因此,獲得較廣泛的應用,使用量也在逐年增加。使用范圍:熱固性塑料、熱塑性塑料、合成橡膠、涂料及建材等行業(yè)。

氫氧化鋁屬兩性氫氧化物

由于其存在兩種量中電離形式,既是弱酸,可以有酸式化學式H3AlO3,又是弱堿,可以有堿式化學式Al(OH)3。氫氧化鋁具有兩性,既能與酸反應又能與堿反應。

氫氧化鋁的酸性在于它是路易斯酸可以加合OH-,從而體現(xiàn)堿性

Al(OH)3由于兩種電離的存在,可以產(chǎn)生兩種鹽:鋁元素兩種鹽:

研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤?筛鶕(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設備轉速的4-5倍。

CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

設備其它參數(shù):

設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

CMD2000系列研磨分散機設備選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD

15000

1100

23

110

DN200/DN150

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%

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