工藝設(shè)計是潔凈廠房設(shè)計過程的先導(dǎo)工序，所以對潔凈廠房工藝設(shè)計的基本要求是在滿足產(chǎn)品生產(chǎn)要求的前提下，合理進行潔凈廠房工藝布局，合理確定各種公用動力設(shè)施的技術(shù)條件和要求等生產(chǎn)條件，做到能量消耗少，運行費用低，生產(chǎn)效率高和建設(shè)投資少，合理進行人流路線，物料運輸和倉儲設(shè)施的配置與布置，滿足產(chǎn)品潔凈生產(chǎn)要求和生產(chǎn)工藝要求，工藝設(shè)計應(yīng)合理選擇生產(chǎn)設(shè)備的自動化水平和物料運輸?shù)淖詣踊�，在�?jīng)濟，實用，安全可靠的條件下提高生產(chǎn)效率。
潔凈廠房的工藝布局應(yīng)綜合各方面的因素，并重點考慮生產(chǎn)工藝，人員操作，設(shè)備維修，物料運輸，未來發(fā)展等方面的要求，工藝布局的核心是滿足產(chǎn)品生產(chǎn)工藝要求，在此前提下根據(jù)所選擇的潔凈室氣流流型，在有利于工藝設(shè)備的安裝維修，物料運輸和提高效率，降低能耗，降低造價等條件下，合理進行潔凈廠房的工藝布置。
在電子工業(yè)的集成電路芯片生產(chǎn)用潔凈廠房的工藝布局設(shè)計時，為了降低各生產(chǎn)工序發(fā)生的投資和運行成本，應(yīng)合理地進行生產(chǎn)設(shè)備的布置來縮短產(chǎn)品生產(chǎn)過程的搬運距離和時間，提高設(shè)備的利用率。一般是由產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝技術(shù)來確定工藝流程，并通過對工藝流程的各步驟分析，計算芯片在生產(chǎn)過程中各功能區(qū)域的傳送頻次。為了減少硅片傳送距離，傳送頻次較高的區(qū)域建議相鄰布置，如光刻區(qū)ing靠近刻蝕區(qū)，刻蝕區(qū)要靠近去膠清洗區(qū)等。集成電路芯片生產(chǎn)應(yīng)依據(jù)產(chǎn)品生產(chǎn)工序分核心生產(chǎn)區(qū)和生產(chǎn)支持區(qū)，通常核心生產(chǎn)區(qū)的生產(chǎn)工藝有光刻，刻蝕，清洗，氧化，擴散，濺射，化學(xué)氣相淀積，離子注入等，一般在生產(chǎn)支持區(qū)設(shè)有人員凈化用室，物料凈化用室，各種工藝介質(zhì)的儲存分配間等。芯片生產(chǎn)的核心區(qū)通常以光刻工藝為中心進行布置。
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