TJ微孔矩陣掩膜版濺射掩膜板叉指電極掩模版激光加工精密切割

華諾激光承接各種圖案定制，客戶較好能提供包含尺寸的CAD版設計圖。如果畫圖實在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來繪制，同時我們還能對客戶的掩膜版設計提供一些建議。

掩膜版的應用

每個芯片上的實際電路結構是用掩模版和光刻技術制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預先噴到半導體表面。

掩模和光刻工藝是很關鍵的，因為他們決定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來對光刻膠進行曝光 。

1、低開模費,可以按設計人員的設計要求進行掩膜圖形任意更改，成本低

2、能實現(xiàn)金屬的半刻，增加公司LOGO，實現(xiàn)品牌化生

3、可達+/-0.0075mm的精度，滿足不同產(chǎn)品的組裝要求

4、復雜外形產(chǎn)品同樣可以蝕刻，無需額外增加成本

5、沒有毛刺，壓點，產(chǎn)品不變形,不改變材料性質(zhì)，不影響產(chǎn)品的功能

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