鍍膜機是一種用于在物體表面覆蓋一層薄膜的設備，‌廣泛應用于物理學、‌化學、‌機械工程等多個領域。‌鍍膜機通過在真空條件下，‌采用等離子技術，‌制備純度高的金屬膜、‌化合物膜等，‌適用于半導體、‌顯示技術、‌光伏產業(yè)、‌工具鍍膜、‌裝飾鍍膜、‌功能鍍膜等多種應用場景。‌鍍膜機的主要組成部分包括真空腔室、‌蒸發(fā)源、‌基片臺、‌真空泵系統(tǒng)等，‌通過控制蒸發(fā)源的溫度和基片的位置，‌可以在基片上形成所需的薄膜。‌

鍍膜機的工作原理主要涉及兩種技術：‌蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜。‌蒸發(fā)鍍膜是通過加熱靶材使其表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，‌并沉積在基片表面形成薄膜。‌濺射鍍膜則是利用電子或高能激光轟擊靶材，‌使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，‌并最終沉積在基片表面形成薄膜。‌這兩種技術都能在基片上形成均勻、‌致密的薄膜，‌具有優(yōu)異的附著力和良好的光學、‌電學性能。‌