一臺完整的鍍膜機通常包括以下主要組成部分：
1.真空腔體：用于產生和維護真空環(huán)境，主要包括吸氣、排氣、內外罩殼、維護裝置、真空系統(tǒng)等相關設備。
2.基片夾持系統(tǒng)：用于固定需要進行鍍膜的基片，通常采用機械夾持或者磁力夾持的方式。
3.靶材或者源材料：用于鍍膜過程中的材料來源，通常是固體靶材或者液態(tài)源材料。
4.鍍膜控制系統(tǒng)：用于對鍍膜過程中各個參數的控制和監(jiān)測，包括真空度、電壓、電流、工件溫度、鍍層厚度等參數的監(jiān)測和調整。
