高純氬是半導(dǎo)體與集成電路制造中的核心電子特氣。在晶圓制造的光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、退火等工序中，高純氬作為載體氣、稀釋氣、濺射氣和保護(hù)氣使用。氬離子可對(duì)晶圓進(jìn)行物理轟擊清洗與刻蝕，保證納米級(jí)結(jié)構(gòu)精度。在 CVD、PVD 鍍膜過(guò)程中，高純氬營(yíng)造無(wú)氧環(huán)境，避免薄膜氧化，提升器件導(dǎo)電與絕緣性能。半導(dǎo)體行業(yè)普遍使用 6N 級(jí)以上高純氬，微量雜質(zhì)即可導(dǎo)致芯片漏電、失效。因此，高純氬的純度與穩(wěn)定性直接影響晶圓良率，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵物料。

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