高端半導(dǎo)體領(lǐng)域是超純氧最核心的應(yīng)用場景，其極致的純度是保障芯片性能和良率的關(guān)鍵。在7nm及以下先進(jìn)制程芯片制造中，超純氧用于硅片氧化、等離子刻蝕、薄膜沉積等核心工序，可精準(zhǔn)控制氧化層的厚度和均勻性，杜絕微量雜質(zhì)導(dǎo)致的芯片短路、漏電、性能衰減等缺陷；在第三代半導(dǎo)體（氮化鎵、碳化硅）制造中，超純氧用于襯底制備和摻雜工藝，提升半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電性和穩(wěn)定性，助力高端芯片、新能源汽車芯片的研發(fā)和生產(chǎn)。

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