六氟化硫于1900年由法國(guó)化學(xué)家Moissan和Lebeau首次合成，最初僅作為一種新型無(wú)機(jī)化合物被研究，未得到廣泛應(yīng)用。1940年前后，美國(guó)軍方將其用于曼哈頓計(jì)劃（核軍事領(lǐng)域），開啟了其工業(yè)化應(yīng)用的序幕。20世紀(jì)50年代末，其優(yōu)異的絕緣和滅弧性能被應(yīng)用于高壓電氣設(shè)備，逐步成為電力行業(yè)的核心介質(zhì)。20世紀(jì)80年代，隨著電子工業(yè)的崛起，對(duì)高純度特種氣體的需求激增，科研人員通過改進(jìn)提純工藝，將六氟化硫的純度提升至電子級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，使其進(jìn)入半導(dǎo)體、集成電路等領(lǐng)域。我國(guó)于21世紀(jì)初實(shí)現(xiàn)電子級(jí)六氟化硫國(guó)產(chǎn)化突破，打破國(guó)外技術(shù)壟斷，目前已能生產(chǎn)滿足極大規(guī)模集成電路需求的高純度產(chǎn)品。

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