納米混懸液研磨分散機，緩控釋混懸液高剪切研磨分散機，醫(yī)藥混懸液高速研磨分散機，管線式混懸液研磨分散機，超高速研磨分散機，高剪切研磨分散機 更多詳情請致電上海依肯銷售工程師 徐工，公司有樣機可以免費進行測試。

CMD2000系列醫(yī)藥混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液，懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。混懸液分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。并且CMD2000系列各個環(huán)節(jié)都帶有夾套,處理過程中可對物料進行溫度控制;清洗方便，符合在線清洗和滅菌。 采用膠體磨和分散機的一體化設(shè)計相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而更具優(yōu)勢。串聯(lián)的話存在時間差，當物料通過膠體磨之后，磨細后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象，經(jīng)過分散機分散，效果不是很好。而CMD超細研磨分散機的話,物料磨細后,瞬間又通過分散工作組，進行分散,在物料還未抱團之，就進行了分散，一個瞬間作用,效果會好很多。

納米混懸液研磨分散機由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

上海依肯IKN納米混懸液研磨分散機技術(shù)參數(shù)選型表：

研磨分散機型 號 流量L/H 輸出轉(zhuǎn)速rpm 線速度m/s 馬達功率kw 出口/入口連接

CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15

CMD2000/5 1,000 6000 23 7.5 DN40/DN32

CMD2000/10 3,000 4200 23 22 DN80/DN50

CMD2000/20 8,000 2850 23 37 DN80/DN65

CMD2000/30 20,000 1420 23 55 DN150/DN125

CMD2000/50 60,000 1100 23 110 DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許的10%。

1、表中上限處理量是指介質(zhì)為"水”的測定數(shù)據(jù)。

2、處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求。

3、如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

4、本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。

5、本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能，須選用高位進料;物料粘度或固含高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。