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氧化硅拋光液 MYH-SOP480

  • 發(fā)布時(shí)間:2026-04-22 09:36:17,加入時(shí)間:2026年04月01日(距今36天)
  • 地址:中國»江蘇»常州:江蘇省常州市天寧區(qū)常州檢驗(yàn)檢測產(chǎn)業(yè)園6號樓601室
  • 公司:銘衍海(常州)微電子有限公司, 用戶等級:普通會(huì)員 已認(rèn)證
  • 聯(lián)系:霍文靜,手機(jī):15995062798

產(chǎn)品簡介

銘衍海氧化硅拋光液 MYH-SOP480 為光通信 + 半導(dǎo)體雙領(lǐng)域超精密拋光核心耗材,核心成分為電子級高純度超細(xì)納米氧化硅磨粒,依托柔性拋光原理,可實(shí)現(xiàn)光學(xué)器件端面原子級光潔、半導(dǎo)體晶圓納米級平整,無損傷精整基材,兼顧光通信超低插損需求與半導(dǎo)體制程嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn),適配高端量產(chǎn)加工。

超精密鏡面拋光,雙領(lǐng)域高端適配,實(shí)現(xiàn):

1. 光器件超低插損、超高回波損耗,滿足 800G/1.6T 超高速光通信;

2. 半導(dǎo)體晶圓納米級平整度,適配光刻、蝕刻等后續(xù)制程,提升良率;

3. 全流程無損傷加工,不劃傷基材、無晶格缺陷、無雜質(zhì)污染。

三、產(chǎn)品特點(diǎn)

1. 磨粒超精高純:電子級高純度球形磨粒,粒徑分布窄,金屬離子含量極低,原子級去除,無劃痕、無殘留、無污染;

2. 柔性無損傷拋光:適配光通信石英 / 陶瓷 / 金屬基材、半導(dǎo)體硅基 / 氧化硅基晶圓,無劃傷、無晶格損傷;

3. 懸浮極致穩(wěn)定:高端水性分散配方,磨粒不團(tuán)聚、久置不分層,批量拋光一致性≥99.5%;

4. 環(huán)保易清無殘留:純水基體系,無 VOC、無重金屬,純水可快速?zèng)_凈,符合清潔生產(chǎn)要求;

5. 雙領(lǐng)域全適配:兼容光通信全規(guī)格連接器 / 光器件,適配半導(dǎo)體各類晶圓 / 襯底,一液多用,無需換耗材;

6. 高效量產(chǎn)適配:拋光效率較傳統(tǒng)產(chǎn)品提升 60%,磨粒與基材貼合性佳,適配規(guī);慨a(chǎn)。

四、應(yīng)用范圍

核心用于高端光通信器件超精密鏡面拋光、半導(dǎo)體晶圓納米級精密拋光,精整表面、優(yōu)化性能、保障制程適配性,適用如下:

一、高端光通信器件

1. 全規(guī)格連接器:SC/LC/FC/ST/MU 單芯、MPO/MTP 4~48 芯高密連接器及尾纖 / 跳線頭 / 適配器插芯;

2. 超高速光器件:800G/1.6T 光模塊、TOSA/ROSA 組件、PLC 分路器、WDM 波分復(fù)用器等;

3. 特種光纖 / 插芯:保偏光纖、大芯徑 / 稀土摻雜光纖連接器,氧化鋯陶瓷 / 玻璃 / 金屬插芯;

4. 高端輔件:光纖光柵、傳感器、光開關(guān)等核心光學(xué)端面。

二、半導(dǎo)體晶圓及基材

1. 硅基晶圓:單 / 多晶硅晶圓前道精拋、后道制程表面整飾;

2. 氧化硅基晶圓:SiO₂/SiON 襯底、SOI 絕緣體上硅晶圓納米級拋光;

3. 配套基材:半導(dǎo)體封裝硅襯底、陶瓷襯底精密拋光;

微納器件:半導(dǎo)體光電器件、微納傳感器晶圓級芯片表面精整。

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